BG-401A曝光机
技术协议
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此协议为
合同的销售技术协议。
BG-401A曝光机主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准
及曝光。本产品操作方便、稳定性高、重复性好，并具有较高的性能价格比，可广
泛应用于科研和生产。
1、设备组成
该设备主要由对准工作台、紫外
光曝光系统、分离视场显微镜及其扫
描机构、电气控制系统、汞灯电源系
统和调平桌架组成。整机体积小、占
地面积少、外形美观大方。
1) 对准工作台具有 X、Y、θ和 Z
向调整，同时 Z向抬升机构具
有粗、微调旋钮手柄。采用真
空复印功能、基片底部吹气功
能，提高基片线条的曝光质量和线条分辨率。
2) 紫外光曝光系统，采用了柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等光学镜
组形成多点光源，再经场镜、聚光镜后多点光源形成的多束光均匀的叠加在
曝光工作面上。
3) 分离视场显微镜便于观察和对准，在 X、Y向可进行大范围扫描观察，既可
进行两个标记的同时对准，又可进行单视场或双视场切换，提高对准效率和
套准精度。可兼容 CCD成像观察系统。
4) 电气控制系统采用进口可编程控制器（PLC）、汉字 LCD显示屏，响应快、
可靠性高；中文界面，具有运行状态提示，便于用户操作。
5) 250W超高压汞灯电源，显示汞灯的工作电压和电流。具有触发简单，可靠合同编号：
履行地点：河北 燕郊
签订日期：
地址：北京东燕郊开发区海油大街 253号
电话：010-61597089
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性高的特点。
2、技术特点
1) 对准工作台 X、Y向正交性好，θ旋向平稳， Z向调节可适用于不同厚度的
基片。对准精度高，速度快，漂移小。
2) 紫外光曝光系统具有光能利用率高，光强度高，光强分布均匀的特点。
3) 显微镜像质清晰，观察舒适。用户可以对物镜倍率进行选配。
4) 该机的关键件引进日本 THK、IKO公司的高质量、高精密的产品，气动元件
采用 SMC的产品，提高了产品的稳定性、使用寿命等。
5) 采用模块化结构，配置灵活。可根据用户的要求提供不规则基片或碎片的专
用掩模版架以及承片台等，最大限度满足用户个性化要求。
3、技术指标
性能名称
技术指标
备注
适用基片尺寸
φ4″（φ100mm）
适用掩模版尺寸
5″（125×125mm）
工作台行程
Ｘ向
±5mm
Y向
±5mm
Z向
3mm
θ向
±12°
基片与掩模版分离间隙
0～0.05mm
对准精度
±1um
分离视场
显微镜
目镜
10×
物镜
10×
物镜分离距离
28～90mm
扫描范围
50×50mm
调焦范围
8mm
曝光光源
250W进口超高压汞灯
光强
≥15mW/cm2
曝光面积
φ108mm
曝光分辨率
1.5um（真空接触）
曝光不均匀性
±3%
曝光时间
0～999s合同编号：
履行地点：河北 燕郊
签订日期：
地址：北京东燕郊开发区海油大街 253号
电话：010-61597089
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整机功率
1000W
整机外型尺寸（长×宽×高）
740×830×1300mm
4、BG-401A曝光机在包装时包括
1) BG-401A曝光机主机
1台
2) 250W汞灯电源
1台
3) 4英寸承片台
1个
4) 5英寸掩模版架
1个
5) 10×目镜
1对
6) 10×物镜
1对
7) 250W汞灯
1个
5、使用环境要求
电源：
220V±11V/50Hz
室内环境：
100级净化
室内光线：
红光或黄光
相对湿度：
40%～60%
压缩空气：
0.5～0.7Mpa(配置Φ6PU管的快速接头)
氮气（N2）：0.2~0.4MPa (配置Φ6PU管的快速接头)
真空：
-0.08～-0.1Mpa (配置Φ4PU管的快速接头)
无影响机器正常工作的振动（参照《微电子生产设备安装工程施工及验收规
范》），无强磁辐射。
